Centrum HiLASE společně s českou firmou CRYTUR a japonskou společností Gigaphoton vyvíjí nový prototyp pevnolátkového laserového zesilovače. Jde o úzkopásmový a vysoko výkonový KrF excimerový laser využitelný v litografickém průmyslu. Spolupráce na tomto projektu úspěšně započala v roce 2020 a do konce roku 2021 je plánováno dokončení projektu. Cílem je zahájit masovou výrobu do roku 2024 s tím, že se předpokládá, že tato technologie bude mít v roce 2025 až 70% podíl na litografickém trhu.
Projekt probíhá v rámci programu podpory aplikovaného výzkumu, experimentálního vývoje a inovací DELTA 2 na základě memoranda o spolupráci mezi Technologickou agenturou ČR a japonskou Organizací pro vývoj nových energetických a průmyslových technologií (New Energy and Industrial Technology Development Organisation – NEDO). Japonská Organizace pro vývoj nových energetických a průmyslových technologií ve své výroční zprávě vyzdvihuje právě spolupráci s ČR.
Bližší informace najdete zde a také ve výroční zprávě NEDO.
